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“The 30th International Conference of Photopolymer Science an Technology (ICPST-30)” (June 25-28, 2013), Chiba (Japan)

von Si Wang

Die „30th International Conference of Photopolymer Science and Technology“ fand im Juni 2013 an der Universität von Chiba statt. Die internationale Konferenz wurde von der „ Society of Photopolymer Science and Technology“ gefördert und organisiert. Die erste Haupt-Session beschäftigte sich mit der nächsten Generation-Lithographie, der sogenannten „Directed Self Assembly von BCP“. Am zweiten Tagungstag wurden zwei informative Sessions in den Bereichen Nano-Biotechnologie und Nanoimprint-Lithographie durchgeführt. Es war für mich sehr attraktiv, die Vorträge zur Orientierung der Kristalliten und Modifizierung der Schnittstelle für Polymer-Solarzellen zu hören.

Mein Vortrag wurde in der Session zur Nanoimprint-Lithographie gut angenommen. Die spannenden Diskussionen bieten mir neue Inspiration und konstruktive Ansätze für meine Forschungsarbeit an. Darüber hinaus war die Konferenz eine gute Gelegenheit, unsere Kooperationspartner über meine Ergebnisse zu informieren. Bei meinem 3-monatigen Gastaufenthalt im Labor unseres Kooperationspartners (Osaka Prefecture University)wurde meine Arbeit durchgeführt. Die offene Problematik meines Vortrags wurde mit einer aktuellen Plasma Trocken-Ätz Anlage (dem sogenannten Induktive Kopplung Plasma) gelöst.

Mein Paper mit dem Titel „Thermal Imprint of P3Ht and PCPDTBT: Layer Preparation and Imprint Temperature“ wurde anschließend veröffentlicht. Der Inhalt des Papers wird auch ein Bestandteil meiner Dissertation sein.

Ich bedanke mich herzlich beim ZGS für die finanzielle Unterstützung meiner Vortragsreise.